真空鍍膜技術(shù)與濕法鍍膜技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn):(1)膜材和基片材料選擇廣泛，膜厚可控制，可制備多種功能不同的功能膜。
真空鍍膜原理:1. 物理氣相沉積技術(shù)是指利用各種物理方法，在真空條件下汽化成原子和分子或電離成離子，將電鍍材料直接沉積在基材表面的方法。
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0769-81001639
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