耗散功率竟然能影響銅濺射等離子體的行為!
本文研究了在銅濺射等離子體中耗散功率對其影響的實驗結(jié)果。通過光發(fā)射光譜技術(shù)進行測量,探討了耗散功率對銅濺射等離子體的物理特性和行為的影響。
通過實驗結(jié)果發(fā)現(xiàn),耗散功率的增加導(dǎo)致銅濺射等離子體中的電子溫度和密度的增加。此外,還觀察到了濺射過程中的輻射特性和粒子輸運行為的變化。
一文讀懂濺射沉積技術(shù)
濺射鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊靶材表面,通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜技術(shù)具有可實現(xiàn)大面積快速沉積,薄膜與基體結(jié)合力好,濺射密度高、針孔少,膜層可控性和重復(fù)性好等優(yōu)點,而且任何物質(zhì)都可以進行濺射,因而近年來發(fā)展迅速,應(yīng)用廣泛。
真空鍍膜和電鍍的區(qū)別
真空鍍膜和電鍍都是常見的表面處理技術(shù),用于改善物體外觀和性能。它們有一些共同點,但也存在著一些明顯的區(qū)別。下面我將詳細介紹這兩種技術(shù)的區(qū)別。
HiPIMS:簡單的方法就能調(diào)控磁控濺射中的金屬/氣體離子比?
1)磁控濺射:HiPIMS中簡單的脈寬變化,就能調(diào)控膜層中的金屬/氣體離子比。
2)常規(guī)的磁控靶換成HiPIMS電源就可以達到上述效果。
不平凡的釩靶HiPIMS(放電區(qū)直徑約30mm放電電流達140A)
金屬釩(V)作為一種高熔點的稀有金屬材料,常與鈮、鉭、鎢、鉬并稱為難熔金屬。金屬釩具有耐鹽酸和硫酸的性能,并且耐氣-鹽-水腐蝕的性能要比大多數(shù)不銹鋼好。在某些特殊的重要場合,金屬V薄膜常被用來作為高溫隔離防護涂層,因此開展V靶HIPIMS放電特性方面的研究工作具有重要的意義。
6種靶材HiPIMS放電大不相同,設(shè)計工藝要知道!
HiPIMS放電,由于工作在放電曲線的特殊區(qū)域,其放電特性不僅依賴于使用的氣壓、電壓,更依賴于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脈沖工作,其放電特性具有時間特征,而表現(xiàn)出不同的放電特性。這里我們選用常用的幾種靶材(Cu,Cr,Mo,Ti,V和C),給出了他們的放電特性。這種與時間相關(guān)的放電特性,對于工藝設(shè)計是非常重要的。
雙脈沖HiPIMS比傳統(tǒng)HiPIMS沉積速率提高近3倍
一種新型的高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)技術(shù),即放電由脈寬短、電壓高的引燃脈沖和脈寬長、電壓低的工作脈沖2部分組成的雙脈沖高功率脈沖磁控濺射技術(shù),目的是解決傳統(tǒng)高功率脈沖磁控濺射沉積速率低的問題。