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真空鍍膜原理是什么？

真空鍍膜原理是什么？

真空鍍膜原理:

1. 物理氣相沉積技術(shù)是指利用各種物理方法，在真空條件下汽化成原子和分子或電離成離子，將電鍍材料直接沉積在基材表面的方法。

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真空鍍膜原理是什么？

真空鍍膜原理是什么？

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