真空鍍膜的特點

真空鍍膜技術與濕法鍍膜技術相比，具有以下優(yōu)點:

(1)膜材和基片材料選擇廣泛，膜厚可控制，可制備多種功能不同的功能膜。

(2)薄膜是在真空條件下制備的，環(huán)境干凈，薄膜不易被污染，因此可以獲得密度好、純度高、涂層均勻的薄膜。

(3)涂膜與基體結合強度好，涂膜牢固。

(4)涂層干燥后不會產生廢液，也不會對環(huán)境造成污染。

真空鍍膜技術主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空束流沉積、化學氣相沉積等方法。除化學氣相沉積外，其他方法都有以下共同特點:

(1)各種鍍膜技術都需要特定的真空環(huán)境，以保證薄膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成的蒸汽分子的運動，不受大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不利影響。

(2)各種鍍膜工藝都需要有蒸發(fā)源或目標，以使薄膜材料蒸發(fā)成氣體。由于對來源或目標的不斷改進，電影制作材料的選擇范圍大大擴大。無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷還是有機材料，各種金屬和電介質薄膜都可以蒸制，還可以不同材料同時蒸制得到多層薄膜。

(3)蒸發(fā)或濺射制膜材料，在與待鍍工件形成薄膜的過程中，可以更準確地測量和控制薄膜厚度，從而保證薄膜厚度的均勻性。

(4)每片膜都可以通過微調閥控制涂層腔內殘留氣體的組成和質量分數，從而防止材料的氧化蒸發(fā)，將氧氣的質量分數降低到較低，還可以充入惰性氣體，這是濕式涂層無法實現(xiàn)的。

(5)由于涂裝設備的不斷改進，涂裝過程可以實現(xiàn)連續(xù)，從而大大提高產品的產量，并在生產過程中對環(huán)境造成污染。

(6)由于薄膜是在真空條件下制備的，薄膜純度高，致密性好，表面光亮，無需再加工，使薄膜的機械性能和化學性能優(yōu)于電鍍膜和化學膜。[２]