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真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別

真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。

磁控濺射技術(shù)分為直流(DC)磁控濺射、中頻(MF)磁控濺射、射頻(RF)磁控濺射，分別有何作用？

磁控濺射可分為直流(DC)磁控濺射、中頻(MF)磁控濺射、射頻(RF)磁控濺射。直流(DC)磁控濺射與氣壓在一定范圍內(nèi)的濺射提高了電離率(盡可能小保持較高的電離率)，提高了均勻度增加了壓力又保證了薄膜的純度，

HIPIMS脈沖磁控濺射的工作原理

脈沖磁控濺射是一種用矩形波電壓脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源的磁控濺射

真空鍍膜的方法有什么？

(1)真空蒸發(fā):將需要涂膜的基材清洗干凈，放入涂膜室。膜材料抽真空后加熱至高溫，使水蒸氣達(dá)到13.3Pa左右，水蒸氣分子飛到基板表面凝結(jié)成膜。

真空鍍膜的特點(diǎn)

真空鍍膜技術(shù)與濕法鍍膜技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn):

(1)膜材和基片材料選擇廣泛，膜厚可控制，可制備多種功能不同的功能膜。

真空鍍膜的分類

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩類，即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。

真空鍍膜原理是什么？

真空鍍膜原理:

1. 物理氣相沉積技術(shù)是指利用各種物理方法，在真空條件下汽化成原子和分子或電離成離子，將電鍍材料直接沉積在基材表面的方法。

真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域

真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域？隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶...

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