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影響真空鍍膜性能的因素有哪些？
蒸發(fā)速率的大小對沉積膜層的影響比較大。由于低的沉積速率形成的涂層結構松散易產大顆粒沉積，為保證涂層結構的致密性，選擇較高的蒸發(fā)速率是十分安全的。
HiPMS利器新應用-高熵合金薄膜制造
高熵合金氮化物薄膜是一種基于高熵合金設計理念的產物，在熱力學和動力學上可以分別具有更低的吉布斯自由能和更小的元素擴散速率，抑制了金屬間化合物有序相的生成，促進簡單固溶體結構甚至非晶相的形成。
高功率脈沖磁控濺射技術簡介（下）
在磁控濺射技術中，可以通過控制沉積參數的變化，轉移到成膜粒子的能量，從而調控薄膜性質28。在為生長膜提供能量的各種方法中，電離物質的轟擊被廣泛使用29,30。
HiPIMS利器新應用-高熵合金薄膜制造
高熵合金氮化物薄膜是一種基于高熵合金設計理念的產物，在熱力學和動力學上可以分別具有更低的吉布斯自由能和更小的元素擴散速率，抑制了金屬間化合物有序相的生成，促進簡單固溶體結構甚至非晶相的形成。
采用脈沖直流PECVD工藝在長管內沉積DLC膜層
管道作為一種流體運輸工具，管道內表面經常暴露在復雜的介質中。這些流體中存在的污染物或腐蝕性元素會導致管道內壁腐蝕破損，每年都會造成巨大的經濟損失。
利用HiPIMS制備出的Ti-Si-N薄膜硬度可以達到66GPa！
Ti-Si-N是被認為是一種高硬度的膜層，Veprek（1999）提出了一種結構模型，認為是非晶包含納米晶結構。這有點類似于我們見到的瀝青和石頭混合路面結構。這里的納米晶尺寸和非晶含量的多少是很講究的。太多不行，太少也不行。