真空鍍膜設(shè)備原理
真空鍍膜設(shè)備是一種用于在物體表面進(jìn)行薄膜鍍層的設(shè)備,常見于電子、光學(xué)、汽車、裝飾等行業(yè)。其原理主要基于真空蒸發(fā)或磁控濺射等技術(shù),以下是真空鍍膜設(shè)備的基本原理:
hipims技術(shù)是物理還是化學(xué)
HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技術(shù)是一種物理上的表面處理技術(shù),它結(jié)合了直流磁控濺射(DCMS)和脈沖功率供應(yīng),以實(shí)現(xiàn)更高的能量和離子密度。
鍍膜工藝技術(shù)分類和理論
鍍膜工藝技術(shù)是一種將薄膜沉積在基材表面的工藝過程,以增強(qiáng)基材的功能和性能。根據(jù)不同的工藝原理和沉積方法,可以將鍍膜工藝技術(shù)分為不同的分類。以下是關(guān)于鍍膜工藝技術(shù)分類和理論的簡(jiǎn)要說明: