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行業(yè)動(dòng)態(tài)

真空鍍膜技術(shù)入門概念

  真空鍍膜技術(shù)是一種在真空中制備薄膜材料的技術(shù),它是材料科學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)和工程技術(shù)的交叉領(lǐng)域。以下是對(duì)真空鍍膜技術(shù)的一些基本概念的介紹:

  真空:在真空狀態(tài)下,沒(méi)有物質(zhì)可以存在于真空中,因此真空中沒(méi)有氣體分子。

  真空泵:真空泵是一種用于抽取氣體分子并使真空系統(tǒng)保持低壓力的設(shè)備。

  蒸發(fā)鍍膜:蒸發(fā)鍍膜是將固體材料加熱到足夠高的溫度,使其蒸發(fā)并在基材上形成固態(tài)薄膜的過(guò)程。

  濺射鍍膜:濺射鍍膜是使用高能離子或電子束轟擊靶材,使靶材上的原子或分子濺射出來(lái)并在基材上形成固態(tài)薄膜的過(guò)程。

  化學(xué)氣相沉積(CVD):CVD是一種在真空中通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在基材上形成固態(tài)薄膜的過(guò)程。

真空鍍膜

  物理氣相沉積(PVD):PVD是一種在真空中通過(guò)物理過(guò)程將靶材上的原子或分子轉(zhuǎn)移到基材上形成固態(tài)薄膜的過(guò)程。

  薄膜:薄膜是指在基材上制備的一層厚度在納米到微米范圍內(nèi)的材料。

  基材:基材是指被鍍膜的物體,可以是金屬、陶瓷、玻璃等。

  鍍膜劑:鍍膜劑是指用于鍍膜的材料,可以是金屬、陶瓷、玻璃等。

  鍍膜機(jī):鍍膜機(jī)是一種用于在基材上制備薄膜的設(shè)備,它通常由真空泵、加熱系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。

  真空鍍膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域,如光學(xué)、電子學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)等。


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