公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”?？?/h1>

公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”?？?，彰顯新鉑科技在高功率磁控濺射方面有較多的技術(shù)積累。

1. HiPIMS電源的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)及研究進(jìn)展

2. 基于高功率脈沖磁控濺射的Cr膜層研究進(jìn)展

3. 高引燃脈沖新HiPIMS模式對(duì)TiN/CrN多層膜結(jié)構(gòu)和性能的影響

4. 電-磁場(chǎng)協(xié)同增強(qiáng)HiPIMS技術(shù)的CrAl靶放電行為及CrAlN薄膜制備

5. 基體偏壓對(duì)高功率脈沖磁控濺射制備CrAlN薄膜性能的影響

6. 高功率脈沖磁控濺射管內(nèi)壁沉積Cr薄膜結(jié)構(gòu)及性能

7. 細(xì)長(zhǎng)管內(nèi)表面鍍Cu過程中的空心陰極輝光電

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