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What are the advantages of PECVD protection technology

PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) is a technique for depositing thin films, widely used in semiconductor manufacturing, solar panel production, display manufacturing, and other fields. Compared with traditional CVD (Chemical Vapor Deposition) technology, PECVD has multiple advantages, especially in terms of protection, as follows:

HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎

高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術，其特點是使用高功率脈沖對靶材進行激發(fā)，以提高濺射過程的離子化程度和沉積速率。

HIPIMS技術在金屬雙極板涂層中的應用

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）物理 氣相沉積（PVD）技術，它通過使用高峰值功率和低占空比的脈沖電源來實現(xiàn)材料的濺射。

hipims脈沖電源控制模式

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脈沖電源控制模式是一種在薄膜沉積技術中廣泛應用電源控制方式。

真空鍍膜時為什么要用到高純氣體

真空鍍膜時用到高純氣體的原因，可以歸結為以下幾點，下面將進行詳細闡述：
一、減少雜質影響，提升薄膜質量

HiPIMS放電制備純金屬薄膜的優(yōu)勢

怎樣提高高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）沉積速率？電源、磁場、工藝自身！

鍍膜電源是什么

鍍膜電源是一種用于鍍膜過程中的電力供應系統(tǒng)。它為鍍膜工藝中的電解槽提供所需的電能，使金屬離子在電解過程中沉積到基材上，形成一層薄膜。