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HiPIMS，低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)！
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新鉑科技專(zhuān)注于高功率脈沖等離子體真空鍍膜技術(shù)
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電源
HiPIMS電源，P3E電源， 100KHz偏壓電源
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設(shè)備
高功率磁控PVD設(shè)備
高能脈沖弧PVD設(shè)備、管道PECVD鍍膜設(shè)備 -
工藝
DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN
產(chǎn)品及解決方案
應(yīng)用案例
about us
關(guān)于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線(xiàn)和5條檢測(cè)調(diào)試線(xiàn)，廠(chǎng)房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專(zhuān)業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷(xiāo)售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷（其中博士6人），在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
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4.5星級(jí)
客戶(hù)好評(píng)
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50+個(gè)
課題合作研發(fā)
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20+個(gè)
定制開(kāi)發(fā)項(xiàng)目
企業(yè)榮譽(yù)
新聞中心
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磁控濺射有哪些種類(lèi)?不同種類(lèi)的工作原理是什么?
磁控濺射作為一種物理 氣相沉積（PVD）技術(shù)，在材料科學(xué)與工程領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。它通過(guò)結(jié)合電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，提高了濺射過(guò)程中的粒子利用率和沉積效率。磁控濺射可以根據(jù)不同的分類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)分為多種類(lèi)型，每種類(lèi)型都有其獨(dú)特的工作原理和適用范圍。以下是一些常見(jiàn)的磁控濺射種類(lèi)及其工作原理概述：...
- 2024-07-26 10:21:43 | →
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點(diǎn)擊關(guān)注，了解最前沿的真空應(yīng)用技術(shù)，跟隨新鉑科技走向未來(lái)！
在展示區(qū)展出了新鉑等離子體鍍膜工藝成品與電源設(shè)備，讓參展的嘉賓與展商皆感嘆新鉑科技在真空應(yīng)用領(lǐng)域技術(shù)實(shí)力！...
- 2023-08-19 09:21:58 | →
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新鉑科技參加2023國(guó)際新材料展
2023年6月27-29日，在深圳國(guó)際會(huì)展中心20號(hào)館舉辦了2023國(guó)際新材料展(MATERIALS.CN)...
- 2023-06-30 13:45:56 | →
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真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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不同鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)
?設(shè)備的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面。首先，PVD 設(shè)備可以在較低的溫度下進(jìn)行鍍膜，這對(duì)于一些對(duì)溫度敏感的材料來(lái)說(shuō)非常重要，可以避免材料在高溫下發(fā)生變形或性能改變。其次，PVD 設(shè)備能夠控制膜層的厚度和成分，從而實(shí)現(xiàn)特定的性能要求...
- 2024-10-29 18:27:11 | →
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鍍膜材料特性對(duì)鍍膜效果的影響
鍍膜工藝中，鍍膜材料的特性對(duì)鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。 首先，鍍膜材料的硬度決定了鍍膜后的表面硬度。如果鍍膜材料本身硬度較高，那么鍍成的膜層也會(huì)具有較高的硬度，能夠更好地抵抗刮擦和磨損。...
- 2024-10-29 18:24:22 | →
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HIPiMS 技術(shù)的檢測(cè)速度有多快？
HIPiMS技術(shù)的檢測(cè)速度是其性能的一個(gè)重要指標(biāo)，它直接影響著該技術(shù)在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用效率和實(shí)用性。...
- 2024-10-25 18:47:47 | →
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HIPiMS 技術(shù)制備的薄膜具有哪些獨(dú)特的性能？
HIPiMS技術(shù)制備的薄膜具有以下獨(dú)特性能：HIPiMS技術(shù)能產(chǎn)生高密度的等離子體，使濺射出來(lái)的粒子具有較高的能量和活性，粒子在沉積到基底上時(shí)能夠更緊密地堆積，形成致密度很高的薄膜...
- 2024-10-22 23:53:15 | →
管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過(guò)飽和而酸化，...
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真空鍍膜的附著力探討
一般來(lái)說(shuō)，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來(lái)進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此，HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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HIPiMS技術(shù)在沉積過(guò)程中如何控制薄膜的微觀(guān)結(jié)構(gòu)
HIPiMS技術(shù)的核心是使用高功率脈沖放電，這導(dǎo)致了等離子體密度和離子化率的顯著提高。通過(guò)調(diào)整脈沖峰值功率，可以改變?yōu)R射粒子的能量分布。較高的功率通常會(huì)導(dǎo)致更高的離子化率，從而影響薄膜的致密度和附著力。...
- 2024-09-25 15:29:36 | →
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HIPiMS技術(shù)的主要應(yīng)用領(lǐng)域有哪些？
HIPiMS（High-Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）技術(shù)因其獨(dú)特的物理和化學(xué)特性，在多個(gè)工業(yè)和科學(xué)研究領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。以下是HIPiMS技術(shù)的主要應(yīng)用領(lǐng)域及其具體應(yīng)用實(shí)例：...
- 2024-09-25 15:10:37 | →
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